Ruszyły prace nad 5 nanometrami
21 grudnia 2015, 10:16Koncern TSNM rozpoczął prace nad 5-nanometrowym procesem technologicznym. Jednocześnie firma wciąż nie zdecydowała, czy będzie używała litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV)
Szybka litografia elektronowa o wysokiej rozdzielczości
5 lipca 2011, 12:15W MIT Research Laboratory of Elekctronic zaprezentowano szybką litografię elektronową, która pozwala na uzyskanie rozdzielczości 9 nanometrów. W połączeniu w innymi właśnie powstającymi technologiami pozwala to mieć nadzieję, że w przyszłości metoda ta będzie wykorzystywana w masowej produkcji układów scalonych.
10 nanometrów w zanurzeniu
13 września 2012, 09:44Intel poinformował, że jest w stanie wykorzystać litografię zanurzeniową do produkcji układów scalonych w 10-nanometrowym procesie technologicznym. Wykorzystujące go układy zadebiutują nie wcześniej niż w 2015 roku.
MIT zapowiada 12-nanometrową litografię
23 lipca 2008, 11:11Niedawno informowaliśmy, że naukowcy z MIT przygotowali narzędzia (w tym tzw. nanolinijkę), dzięki którym możliwe będzie wykorzystanie technik litograficznych do produkcji układów scalonych w procesie 25 nanometrów. Mark Schattenburg, dyrektor Space Nanotechnology Laboratory w MIT, mówi: ... sądzimy, że używając obecnie dostępnej techniki jesteśmy w stanie zwiększyć rozdzielczość co najmniej dwukrotnie.
Nowa, tania metoda litograficzna
16 sierpnia 2010, 17:47Na Northwestern University powstała nowa technologia litograficzna, która może zrewolucjonizować produkcję układów scalonych. Litografia piórem świetlnym (beam-pen litography - BPL) pozwala na szybkie i tanie tworzenie prototypowych układów scalonych.
TSMC również zainwestuje w ASML
6 sierpnia 2012, 07:32TSMC to kolejny półprzewodnikowy gigant, któremu zależy na przyspieszeniu prac nad sprzętem litograficznym kolejnej generacji. Tajwańskie przedsiębiorstwo ma zamiar zainwestować w ASML 1,4 miliarda dolarów. Już wcześniej inwestycję w wysokości 4 miliardów USD zapowiedział Intel.
TSMC światowym liderem we wdrażaniu EUV
16 października 2019, 15:13Przed tygodniem TSMC ogłosiło, że wykorzystywana przezeń technologia 7nm plus (N7+) jest pierwszym komercyjnie dostępnym wdrożeniem technologii EUV (litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie). Tym samym tajwański gigant ustawił się w roli światowego lidera EUV. I wielu analityków to potwierdza.
Litograficzne problemy
21 września 2009, 08:47Przemysłowi półprzewodnikowemu doszedł kolejny problem związany z koniecznością przełamywania kolejnych barier w miarę zmniejszania się poszczególnych elementów umieszczanych na krzemie. Tym razem nie chodzi o kłopoty związane z właściwościami materiałów czy odpowiednimi technikami produkcyjnymi.
Prawo Moore'a zagrożone?
6 października 2012, 09:12Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV
Nie tylko Intel
15 października 2009, 11:04Już nie tylko dane z Intela mówią o wychodzeniu rynku IT z kryzysu. Optymistycznych informacji dostarcza też firma ASML, producent urządzeń do litografii. W trzecim kwartale bieżącego roku holenderskie przedsiębiorstwo sprzedało usługi i urządzenia o łącznej wartości 555 milionów euro.
